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光学镀膜

光学镀膜

磁控溅射

通过磁控溅射轰击金属靶材,经过氧化后沉积到工件表面,形成致密的膜层结构

磁控溅射
磁控溅射
磁控溅射

特点:

  • 膜层致密性极高、强度大
  • 成膜时间短,光谱控制准确
  • 两个真空腔体,装载容量大,适合大批量生产

 

典型产品:

 

美容机滤光片、截止滤光片、合束镜、铝反射镜

典型膜系:

典型膜系

窄带滤光片

典型膜系

二向色镜

典型膜系

长波通滤光片

典型膜系

镀铝反射镜

离子束辅助沉积

膜料在电子枪作用下,局部高温而气化蒸发,沉积到被镀基片表面,受到辅助离子源轰击后,形成牢固的薄膜材料

特点:

  • 膜层致密性、吸收、表面粗糙度中等
  • 经济实惠,适合批量生产
离子束辅助沉积
离子束辅助沉积
离子束辅助沉积
离子束辅助沉积
离子束辅助沉积
离子束辅助沉积

典型膜系:

典型膜系

NPBS 

典型膜系

PBS

典型膜系

宽带增透膜

典型膜系

宽带反射

离子束溅射

高速正离子轰击氧化物靶材表面,分子或原子获得足够动能从靶表面溢出溅射,在被镀件表面凝聚成膜

特点:

  • 光谱控制准确,膜层牢致密性好、吸收小、表面光滑
  • 适合高精密、小批量产品生产

典型产品:

强激光器件,医疗产品镀膜,窄带滤光片

离子束溅射
离子束溅射

典型膜系:

典型膜系

窄带滤光片

典型膜系

偏振片

典型膜系

陷波滤光片

典型膜系

二向色镜

这是描述信息

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